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PVD多弧真空离子镀膜设备
PVD多弧真空离子镀膜设备
PVD多弧真空离子镀膜设备
PVD多弧真空离子镀膜设备特点：采用新型大功率脉冲偏压电源，配备最新研制离子弧源，选用先进的多路进气系统、水路系统、稳定的自动控制系统，可获得性能优良的膜层，适用于工模具零部件等超硬涂层。
